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1 aligneur de masques AL6-2 (photolithographie)

Description

Aligneur de masques EVG 6/2 pour l'exposition photolithographique de substrats ronds (1", 2", 3", 4", 5", 6") jusqu'à 10 mm d'épaisseur et masques jusqu'à 6". Année de construction env. 1992. Bien que porte-substrats max. 6", de nombreux wafers Si de 8 pouces (200 mm) ont été exposés avec succès recto-verso en 2010. Exposition recto et verso possible (p. ex. pour la fabrication de membranes). Contact souple, contact dur, contact sous vide.

Leistungsbeschreibung:Mask-Aligner EVG 6/2 zur photolithographischen Belichtung von runden Substraten (1", 2", 3", 4", 5", 6") mit max. 10mm Dicke sowie Maskengrößen bis 6". Baujahr ca. 1992.Obwohl max. 6"-Substrathalter wurden insbesondere 2010 sehr viele 8 Zoll (also 200mm) Si-Wafer erfolgreich beidseitig belichtet. | Vorderseiten- als auch Rückseitenbelichtung (z.B. zur Herstellerung von Membranen) möglich.Softkontakt; Hardkontakt; Vakuumkontakt; Proximity-Belichtung einstellbar. Intervallbelichtung für dicke, nicht chemisch-verstärkte Resiste möglichJustiergenauigkeit laut Spezifikation 1,25µm, realtistisch sind ca. 5µm.Belichtungswellenlänge: 365nmsub-µm Auflösung je nach Resistschichtdicke ist erreichbar | Zustandsbeschreibung:Letzer Service durch Hersteller EVG war geschätzt im Jahr 2012 oder 2015. | Maskenhalter und Substrathalter mit Lineal sind komplett, Austauschobjektive sind vorhanden. | Letzter Test am 05.08.2026 nach ca. 2 Jahren ohne Benutzung:Einschalten der Elektrik: okZünden der Quecksilberdampflampe: ok -> Lichtintegrator meldet "Lampe zu alt, sollte gewechselt werden"; Ersatztlampen können wir mitliefern.Starten der Elektronik: okAusgabe auf linken Röhrenmonitor: okTastaturfeld: ok (sieht übrigens aus wie am ersten Tag)WICHTIG: Vor dem Starten/Initailisieren muss die Hilfsposition angefahren werden. Sonst verklemmt sich die Tischmechanik und ein Ein-Mal-Passwort muss bei EVG "eingekauft" werden (~1500€)Anfahren der Hilfsposition: okInitialsierung: okLaden

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Lieu07745 Jena
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À propos de la vente

Friedrich-Schiller-Universität Jena - Dezernat Finanzen und Beschaffung
Friedrich-Schiller-Universität Jena - Dezernat Finanzen und Beschaffung · 1 lot
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Administration publique Jena

1 aligneur de masques AL6-2 (photolithographie)

Titre d'origine1 Maskaligner AL6-2 (Photolithographie)

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13 €
1 enchère
Fin le lun. 9 nov., 07:00
lun. 9 nov., 07:00 (heure de Berlin)
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